yıl

Sıvı, viskoz ve viskoz olmayan maddelerin, yüksek konsantrasyonda sıvı içeren şekilde, toz hale dönüştürme prosesi.

Yara, Raps, Natex ve Bochum Üniversitesi, VTP - Proses Teknoloji Bölümü işbirliği ile gerçekleştirilen yeni toz üretme teknolojisini bilgilerinize sunmaktan mutluluk duyuyoruz. COPRIS™ 

Concentrated Powder Form - Konsantre Toz Hali - olarak tanımlanan, patentli sistem kısaca CPF olarak tanımlanmaktadır.

Viskoz veya katı ürünler içine küçük miktarlarda sıvının karıştırılması teknik olarak talep edilen, ihtiyaç duyulan bir prosesdir.

Kek ve bisküvi gibi ürünlerin içine eklenecek yüksek konsantre aroma ve baharatın, en iyi kalitenin elde edilmesi için, homojen olarak karıştırılması gerekmektedir. 

Bu tür ürünlere, toz malzemeler daha kolay ve homojen olarak karışmaktadır.

CPF sisteminde; sıvılar ve sıvı karışımlar  gaz (CO2) eklenerek, işleme tabi tutulur, bileşimleri bozulmayacak şekilde, toz haline dönüştürülür.

Gaz ile doyurulan sıvılar,  bir nozul vasıtası ile püskürtme kulesine gönderilir. Bunun sonucu olarak, -10 °C - 10 °C arasında küçük damlacıklar oluşur. Aynı anda toz taşıyıcı eklenir, ve bunlar damlacıklara yapışarak, yüzde 80 (wt.%) sıvı içeriği olan ve serbest akma özellikte toz malzeme elde edilir.

CPF sistemi ile; örneğin lipit ve viskoz konsantrelerden, aroma, öz,  toz boya, yağ, baharat özleri, oleoresin, emülsiyon gibi proses tozları elde edilebilir.

Bu sıvı veya emülsiyonlar daha sonra çok hassas bir şekilde toz haline dönecek şekilde dozajlanabilir.

Bu sayede; gıda, kozmetik, ilaç, kimya sanayi başta olmak üzere birçok sektörde yepyeni fırsatlar yaratılabilir.

Üretim prosesi birçok avantaj sağlamaktadır. Ürün etkin  bir şekilde genleşen gaz ile soğutularak, aktif ve aromatik maddelerinin yok edilmesine neden olacak kimyasal reaksiyonlar  önlenir veya azaltılır.

Düşük ısı değerlerinde, hassas aromalar, ürünün içinde kalır ve üretim esnasında meydana gelen istenmeyen koku kaybı önlenir.

Bir diğer avantaj da sadece karbondioksit kullanılmasıdır. CO2 durağan olup, koruyucu gaz olarak da davranmaktadır.

Örneğin; ilaç sanayindeki aktif maddeler koruyucu bir gaz ortamında özelliklerini koruyacak bir şekilde stoklanabilmektedir.

Bu koruyucu özellik CPF ürünleri içinde halihazırda entegre halde bulunmaktadır.

Farklı taşıyıcı toz seçimi ile,  maddelerin serbest bırakılması kontrol edilebilir. Bu şekilde CPF ürünlerinde kolay bir şekilde, sıvı ve yağlı ortamlardan akışkanların serbest bırakılması sağlanabilir.

Kimya, İlaç, Gıda sanayi ürünlerinden büyük bir kısmı sadece toz halde tüketildiğinden, bu şekilde üretilmelerine ihtiyaç duyulmaktadır. Normalde, klasik toz üretim teknikleri, metotları olarak, kristalleştirme, kurutma, öğütme ve eleme şeklinde üretim yapılmaktadır.

Ancak, çok küçük taneli partiküllere ihtiyaç duyulduğunda veya polimer gibi yüksek viskoziteli maddelerin üretilmesi gerektiğinde tane çapları mikron seviyelerine indirilmesinde geleneksel işletme şartları yetersiz kalmaktadır.

Bu durumda, çözüm, modern yüksek-basınç prosesindedir.

Yeni PGSS prosesi (Particles from Gas Saturated Solutions - Gaz ile Doyurulmuş Solüsyonlardan Taneciklere) Bochum Üniversitesi, VTP - Proses Teknoloji Bölümü (Prof. Weidner)  ile  Maribor Üniversitesi (Prof. Knez) işbirliği ile geliştirilmiş patentli bir sistemdir.

Diğer teknolojiler ile pulvarize edilmesi mümkün olmayan, yapışkanlar, yağlar, gibi düşük erime noktası olan veya yüksek viskozite özelliğine sahip maddelerin pulvarize edilmesi sağlanmaktadır.

Toz hale getirilen ana ürünlerin dışında, PGSS sistemi ile, sıvı ile doldurulmuş mikro kapsüllerin üretimi mümkündür. Burada amaç sadece ürünlerin korunması değil, ürünlerin bileşiğini meydana getiren aktif unsurların kontrollü olarak serbest bırakılmasında yeni imkanların yaratılmasıdır.

Örneğin, belli erime derecesi olan bir bağlayıcı malzeme seçimi ile, ısı kontrollü olarak serbest bırakma gerçekleştirilebilir.

Örnek uygulama olarak çikolata içinde içinde bulunan kiraz likörü  gibi sarmalanmış aromaların çeşitlendirilmesi ile inovatif ürünlerin meydana getirilmesi sayılabilir.